CCS A 42 ICS 07.030
GB 中华人民共和国国家标准 GB/T42106-2022
纳米技术三维纳米结构与器件的加工 方法离子束辐照诱导应变法 Nanotechnology-Fabrication of three dimensional nanostructures and devicesA strainmethod inducedbyionbeamirradiation
2022-12-30发布2023-07-01实施 国家市场监督管理总局发布 国家标准化管理委员会
GB/T42106-2022
目次
前言 引言. 1范围 2规范性引用文件 3术语、定义和缩略语 3.1术语和定义 3.2缩略语*...* 4加工原理 4.1原理 4.2利用该加工原理可构建的三维纳米结构 5材料与设备 5.1材料 5.2设备 6环境条件 6.1温度 6.2湿度 6.3洁净度 7加工方法 7.1衬底清洗 7.2直立纳米线构建三维纳米结构的加工方法 7.3平面纳米薄膜构建三维纳米结构的加工方法 7.4保存 参考文献
GB/T42106-2022
前言
本文件按照GB/T1.1一2020《标准化工作导则第1部分：标准化文件的结构和起草规则》的规定 起草。
本文件由中国科学院提出。
本文件由全国纳米技术标准化技术委员会(SAC/TC279)归口。
本文件主要起草人：顾长志、杨海方、李俊杰、刘前、王益群、樊阳波。
GB/T 42106-2022
引言
离子束辐照可诱导直立纳米线或平面纳米薄膜产生应变，从而使纳米线或纳米薄膜在三维空间产 生弯曲或折叠，为构建高性能的三维纳米电子器件、光电和光学元器件等提供了新的加工手段。
本文件 提供一种利用离子束辐照诱导应变技术构建三维纳米结构与器件的加工方法规范。
本文件的发布机构提请注意，声明符合本文件时，可能涉及7.2和7.3与直立纳米线或平面纳米薄 膜构建三维纳米结构的加工方法相关的专利的使用。
本文件的发布机构对于专利的真实性、有效性和范围无任何立场。
该专利持有人已向本文件的发布机构承诺，他愿意同任何申请人在合理且无歧视的条款和条件 下，就专利授权许可进行谈判。
该专利持有人的声明已在本文件的发布机构备案。
相关信息可通过以 下方式获得： 专利持有人姓名：中国科学院物理研究所 地址：北京市海淀区中关村南三街8号 请注意除上述专利外，本文件的某些内容仍可能涉及专利。
本文件的发布机构不承担识别专利的 责任。
Ⅱ
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纳米技术三维纳米结构与器件的加工 方法离子束辐照诱导应变法
1范围
本文件描述了离子束辐照诱导应变技术构建三维纳米结构与器件的加工方法，主要包括加工原理、 材料与设备、环境条件、加工方法。
本文件适用于离子束辐照诱导直立纳米线和平面纳米薄膜的空间应变，进而实现三维空间中由一 维纳米线和二维纳米薄膜构成的三维纳米结构与器件。
2规范性引用文件
下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款。
其中，注日期的引用文 件，仅该日期对应的版本适用于本文件；不注日期的引用文件，其最新版本（包括的修改单)适用于 本文件。
GB/T6682分析实验室用水规格和试验方法
3术语、定义和缩略语 3.1术语和定义 下列术语和定义适用于本文件。
3.1.1 三维纳米结构three dimensionalnanostructure 在三维空间的任意维度上，一个或多个部分处于纳米尺度区域的相互关联的组成部分。
3.1.2 离子束辐照诱导应变strain inducedby ionbeam irradiation 在离子束辐照下，一维和二维纳米结构产生应变进而发生形变。
3.1.3 聚焦离子束focusedionbeam 将离子束聚焦到亚微米或纳米尺度，通过偏转系统和加速系统控制离子束扫描运动，可实现微纳米 图形的检测分析和微纳米结构的无掩模加工。
3.2缩略语 下列缩略语适用于本文件。
FEB：聚焦电子束（focused electronbeam） FIB：聚焦离子束（focusedionbeam) FIB/FEB：聚焦离子束/聚焦电子束（focusedionbeam/focusedelectronbeam) FIB-CVD：聚焦离子束辅助化学气相沉积（focusedionbeamchemicalvapordeposition） PMMA：聚甲基丙烯酸甲酯（polymethylmethacrylate)
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