ICS71.040.40 CCS G04 GB 中华人民共和国国家标准 GB/T410642021/ISO17109:2015 表面化学分析深度剖析 用单层和 多层薄膜测定X射线光电子能谱、俄歇 电子能谱和二次离子质谱中深度剖析 溅射速率的方法 Surface chemical analysis-Depth profiling-Method for sputter rate determination in X-ray photoelectron spectroscopy Auger electron spectroscopy and secondary-ion mass spectrometry sputter depth profiling using single and multi-layer thin films (ISO17109:2015 IDT) 2021-12-31发布 2022-07-01实施 国家市场监督管理总局 国家标准化管理委员会 发布 GB/T41064-2021/ISO17109:2015 目 次 前言 Ⅲ 引言……………………………… N 1范围…………… 1 .2规范性引用文件……………………………………1 3术语和定义 … 4单层和多层薄膜参考物质的要求 ……1 5溅射速率的确定………… …………………………2 附录A(资料性)国际比对实验报告……………………………5 附录B(资料性)通过溅射产额列表值估算其他材料的溅射速率………11 参考文献 ………………………12 I ...
GB/T 41064-2021 表面化学分析 深度剖析 用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中深度剖析溅射速率的方法.pdf
