10S13.020.20 A17 团 体 标准 T/CAB0110—2021 基于可复用紫外光固化材料的微纳 结构转印技术要求 Technical requirements of micro nano structure transfer printing based on reusable UV curable materials 2021-09-28发布 2021-09-28实施 中国产学研合作促进会发布 T/CAB0110-2021 目 次 前言 II 引言 . Ⅲ 1范围. 2规范性引用文件.. 3术语和定义.， 3.1母版...... 3.2单张模版..... 3.3卷状模版..... 3.4微纳结构材料.. 2 3.5紫外光固化模压 2 4原辅材料要求........ 2 4.1紫外光固化信息层涂料 2 4.2化学处理聚酯(PET)薄膜 2 4.3单张模版版材 ...2 4.4镀膜材料. 3 4.5镀层保护涂料 3 5工艺控制要求... “ 3 5.1生产工艺... 3 5.2卷状模版制作控制... 3 5.3转印过程控制.， 3 6质量要求.. 4 7检验方法. 5 7.1原辅材料检验 5 7.2工艺控制检验..，... 6 7.3成品检验............. .... 8 附录A(资料性)微纳结构材料的生产工艺流程图. 9 T/CAB0110-2021 前言 本文件按照GB/T1.1一2020《标准化工作导则第1部分：标准化文件的结构和起草 规则》的规定起草. 请注意本文件的某些内容可能涉及专利.本文件的发布机构不承担识别专利的责任. 本文件由上海顺灏新材料科技股份有限公司提出. 本文件由中国产学研合作促进会归口. 本文件起草单位：上海顺灏新材料科技股份有限公司、河北智生环保科技有限公司、湖 北宜美特全息科技有限公司、上海天臣微纳米科技股份有限公司、珠海中丰田光电科技（珠 海)有限公司、苏州印象镭射科技有限公司、深圳劲嘉集团股份有限公司、浙江美浓世纪集 团有限公司、武汉华工图像技术开发有限公司、广东鑫瑞新材料科技有限公司、重庆市涪 陵太极印务有限公司、厦门市为纳光电有限公司、绍兴虎彩激光材料科技有限公司、北京化 工大学、中柔凹印技术服务（北京）中心. 本文件主要起草人：黄洋洋、袁晨、刘治生、朱先义、李春阳、庄孝磊、高芸、胡文喜、 胡祖元、吕伟、李静、王可、鲁琴、钟雪春、陈玉、叶志成、李慧敏、丁雪佳、张云、张 保平. ...
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