团 体标 准
10.5G化学气相沉积设备用下部加热基座
lower heating susceptor products of 10.5G chemical vapor deposition equipment
芜湖市质量与标准化协会 发布
前言
本文件按照GB/T1.1-2020《标准化工作导则第1部分：标准化文件的结构和起草规则》的规定起草.
本文件的某些内容可能涉及专利.本文件的发布机构不承担识别专利的责任.
本文件由芜湖通潮精密机械股份有限公司提出.
本文件由芜湖市质量与标准化协会归口.
本文件起草单位：芜湖通潮精密机械股份有限公司、合肥京东方显示技术有限公司、芜湖芯通半导体材料有限公司、芜湖长信科技股份有限公司、芜湖晶纯科技有限公司、安徽润景信息科技有限公司.
本文件主要起草人：司奇峰、王慧、刘其贵、何新玉、熊宏祥、王玉亮、王宜申、吴小杰、郑建军、王茹、黄锦祥、张丽.
10.5G化学气相沉积设备用下部加热基座
1范围
要求、检测方法、检验规则以及包装、运输和贮存. 本文件规定了10.5G化学气相沉积设备用下部加热基座产品（以下简称“下部加热基座”）的技术
本文件适用于10.5G化学气相沉积设备用下部加热基座产品的研制、生产、检验和交付.
2规范性引用文件
仅该日期对应的版本适用于本文件：不注日期的引用文件，其最新版本（包括的修改单）适用于本 下列文件中的内容通过文中的规范性引用面构成本文件必不可少的条款.其中，注日期的引用文件，文件.
GB/T4957-2003非磁性基础金属上非导电覆盖层覆盖层厚度测量涡流法GB/T18719-2002热喷涂术语、分类GB/T36176-2018真空技术氮质谱真空检漏方法
3术语和定义
GB/T18719-2002界定的以及下列术语和定义适用于本文件.
3. 1
下部加热基座Iowerheatingsusceptor
化学气相沉积（CVD）工艺设备的下部加热电极，用于化学气相沉积时对玻璃基板进行承载和均匀加热.
3. 2
Bush子L径Bush aperture
化学气相沉积设备用下部加热基座背面的安装陶瓷孔直径.
4要求
4.1产品结构
下部加热基座的结构说明如下：
a）结构：产品表面阳极氧化膜、铝基板、内圈加热丝、外圈加热丝、热电偶、加热丝引出杆：b）加热方式：内圈和外圈电阻丝加热：c）电源连接方式：加热丝加电：d）产品结构见图1.
图1下部加热基座结构
4.2外观质量
下部加热基座阳极膜表面应平整光洁，不应有划伤、膜层开裂、毛刺等缺陷.
4.3主要技术指标
下部加热基座的技术指标见表1.
表1下部加热基座技术指标
序号 指标名称 单位 要求 规定测量点数1 平面度 m 0.5~1. 0 6=×↓2 膜厚 μm 20±3 6=×↓3 租糙度” μ 20±2 6=×↓4 温度均匀性 （220℃非真空条件下） ±105 Bush孔径 m 27.0±0.1 34孔全检6 氨漏率 Pa * n² /s ≤1.010° -7 内图加热丝电阻 0 30±3 48 外图加热丝电阻 0 26±2 49 加热丝与基体间绝缘阻抗 MO ≥2 8平面度、膜厚和粗糙度指标均按图1所示测量产品正面指标.
5试验方法
5.1一般试验条件
环境温度：15℃~35℃：
相对湿度：25%~75%；
气压：试验场所的大气压.
5.2外观质量
在照度（1000土200）1x的条件下目测检查.
5.3平面度
所示. 用平面度测量仪进行测量并记录数据，取其算数平均值作为测量结果.平面度测量规定点数见图2
图2平面度、膜厚和粗糙度测量规定点数
5.4膜厚
按照GB/T4957-2003的要求，用膜厚测试仪对阳极氧化膜层进行测量并记录数据.膜厚测量规定点数见图2所示.
5.5粗糙度
用粗糙度测量仪进行测量并记录数据，粗糙度仪器测量方向需沿图示测量方向进行，测量距离>5mm.粗糙度测量规定点数见图2所示.
5.6温度均匀性
加热丝加380V工作电压，并通电保持1h以上，待产品温度稳定后，测量8个点位温度并记录数据，所测温度最大值与最小值的差值即为温度均匀性，温度测量规定点数见图3所示.
图3温度测量规定点位
