中华人民共和国电子行业标准 FL6190 SJ21256-2018
溅射镀膜设备工艺验证方法 Technological verification proceduresforfilm sputteringequipment
2018-01-18发布2018-05-01实施
国家国防科技工业局发布
SJ21256-2018
前言 本标准的附录A为资料性附录。
本标准由中国电子科技集团公司提出。
本标准由工业和信息化部电子第四研究院归口。
本标准起草单位：中国电子科技集团公司第四十八研究所。
本标准主要起草人：余鹏程、
S
SJ 21256-2018
溅射镀膜设备工艺验证方法
1范围 本标准规定了溅射镀膜设备工艺验证的一般要求、验证条件和验证方法等内容。
本标准适用于离子束溅射及磁控溅射镀膜设备（以下简称镀膜设备）工艺性能的验证。
2规范性引用文件AND
修改单（不包含勘课的内容）或修订版均不适用于本标准，然而） 是否可使用这 GB/T25-2010淄净室及相关受控环境第1部分 3术语和中定义 下列术语和定义适用 3.1 膜厚均性the uniformity of film-t 基片表面镀膜生成的膜层厚度均匀性 3.2
一般要求
a）送验方应提前向承试方提交产品规范和受试镀膜设备随机文件，包括镀膜设备详细规范、合格 证、安装及使用说明书、维修手册、其他有特殊性能要求的质量证明； b)）受试镀膜设备主要技术性能应达到产品规范所规定的要求； c）承试方对受试镀膜设备进行相应的调整和校准； d）承试方检查并记录受试镀膜设备的有关技术参数和工作状态，记录格式参见附录A中的表A.1。
4.2验证试验过程中受试镀膜设备状态控制 应通过以下措施保证试验过程中受试镀膜设备的技术状态： a）受试镀膜设备移交后，由承试方负责组织实施镀膜设备的验证试验工作； b)）未经承试方同意，任何人不得随意更改、调整受试镀膜设备的工作状态； c)试验期间受试镀膜设备的使用和维护保养，应按送验方提供的镀膜设备使用说明书中的有关规 定执行；
SJ 21256-2018 d）试验期间受试镀膜设备所发生的故障及其检查排除情况应予以记录，记录格式参见附录A中的 表A.2； e）试验期间受试镀膜设备零件、部件、整件损坏或失效，应经承试方同意后方可更换，更换后应 对镀膜设备有关技术参数重新测试。
4.3验证试验后受试镀膜设备状态控制 应通过以下措施保证试验后受试镀膜设备的技术状态： a）检查并记录受试镀膜设备的有关技术参数和工作状态； b）试验结束后承试方应及时向送验方提交试验结论。
4.4测试仪器和设备 测试仪器和设备应在检定/校准合格有效期内。
若无特殊规定，其测试仪器和设备的准确度应高于 受试镀膜设备参数允许准确度一个数量级。
4.5操作人员 受试镀膜设备操作人员应经专业培训，具有正确操作镀膜设备的特定技能，并在验证过程中采用正 确的验证操作方法。
4.6中断与恢复试验 4.6.1中断试验 当发生下列情况之一时，应中断试验： a）试验中任一工艺指标或产品指标达不到要求，在试验场地难以查出原因，无法采取纠正措施； b）试验条件、受试镀膜设备在试验场地出现问题（异常），影响试验继续进行。
4.6.2恢复试验 当引起中断试验的原因确已查明，并具备重新试验条件时，应由送验方与承试方共同商议后重新开 始试验。
5详细要求
5.1验证试验条件 5.1.1试验环境 镀膜设备试验环境应满足下列要求： a)温度：23℃±3C； b）相对湿度：30%~70%; c)大气压：86kPa~106kPa; d）洁净室的净化等级：应符合GB/T25915.1-2010的ISO7级或ISO7级以上。
5.1.2供电 镀膜设备供电应符合下列要求： a)电源供电电压允许偏差为额定电压的土10%； b）电源频率偏差允许为标准频率（50Hz）的土2%。
5.1.3供气 镀膜设备供气应满足下列要求： a）压缩空气经过去水汽、油污过滤处理，进气压力为0.4MPa～0.7MPa; b）开启腔体用普通氮气纯度不低于99.9%，进气压力为0.3MPa~0.5MPa； c）工艺气体纯度不低于99.999%，进气压力为0.2MPa~0.3MPa。
5.1.4供水 冷却水进水压力0.3MPa~0.5MPa，进水温度15°℃～25C。
2
SJ 21256-2018 5.1.5排废气 外围排废气接口满足设备要求，将废气管道引出净化室外。
5.2受试镀膜设备的开机及调整 5.2.1开机步骤及要求 受试镀膜设备开机应符合下列要求： a）开启镀膜设备外围冷却水、压缩空气、工艺气体； b）接通镀膜设备电源，启动计算机，运行控制软件； c）开启自动抽真空。
5.2...
