ICS71.100.01 CCS G15 团 体 标 准 T/QGCML 2307—2023 光刻胶用低金属含量四甲氧甲基甘脲生产 技术要求 Technical requirements for the production of low metal content tetramethoxymethyl glyurea for photoresist 2023-11-27发布 2023-12-12实施 全国城市工业品贸易中心联合会发布 T/QGCML2307-2023 目 次 前言. ........II 1范围. .1 2规范性引用文件1 3术语和定义1 4技术要求. ...1 5试验方法.. ..1 6检验规则.. .... 4 7标志、包装、运输和贮存4 I T/QGCML2307—2023 前言 本文件按照GB/T1.1一2020《标准化工作导则第1部分：标准化文件的结构和起草规则》的规定 起草. 请注意本文件的某些内容可能涉及专利.本文件的发布机构不承担识别专利的责任. 本文件由全国城市工业品贸易中心联合会提出并归口. 本文件起草单位：太原科源达精细化工有限公司、太原化学工业集团有限公司、太原市埃斯维达化 工科技有限公司. 本文件主要起草人：崔文华、白晓宇、张建成、张孝、胡向军、邢继武、安江辉、裴少琳、卫荣荣、 陈嘉伟、曲军、尹渊、尹一航、白文英、蔚舒、王杨、张婕. II ...
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