SJ/T 11503-2015 碳化硅单晶抛光片表面粗糙度的测试方法.pdf

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ICS29.045 H83 备案号:50560-2015 SJ 中华人民共和国电子行业标准 SJ/T11503—2015 碳化硅单晶抛光片表面粗糙度的测试方法 Test methods for measuring surface roughness of polished monocrystalline silicon carbide wafers 2015-04-30发布 2015-10-01实施 2015 中华人民共和国工业和信息化部发布 SJ/T115032015 前 言 本标准按照GB/T1.1一2009给出的规则起草. 请注意本文件的某些内容可能涉及专利.本文件的发布机构不承担识别这些专利的责任. 本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC203)归口. 本标准起草单位:中国电子科技集团公司第四十六研究所、北京天科合达蓝光半导体有限公司、工 业和信息化部电子工业标准化研究院 本标准主要起草人:丁丽、 INDUSTR TECHNOL 何秀坤、冯亚彬、装会川. SJ STANDARDS ...

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