中华人民共和国国家标准
GB/T 11164-2011代替GB/T11164-1999
Vacuum coating plant generic specification
中国国家标准化管理委员会 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 发布
目 次
前言1范围2 术语和定义 规范性引用文件4技术要求5试验方法6检验规则7标志、包装、运输、贮存
前言
本标准按照GB/T1.1-2009给出的规则起草.
化如下： 本标准代替GB/T11164-1999《真空镀膜设备通用技术条件》，与GB/T11164-1999相比主要变
一一为使用方便增加了目次；修改了GB/T11164-1999中真空镀膜设备的压力范围，由10Pa~10Pa修改为10Pa~-修改了GB/T11164-1999表1中镀膜室尺寸分档，增加了300、400、450、1100、1350、2200、 10 Pa;2400、2500、2600、3200十档尺寸，并对带““号尺寸优先选用进行了调整：一修改了GB/T11164-1999表1中镀膜设备的分档，增加了C档镀膜设备，并增加或修改了各档镀膜设备的极限压力、抽气时间及升压率指标：修改了GB/T11164-1999的4.4.6，用表格的方式规定了设备配套的电器装置中各电气回路 因GB/T11164-1999中部分规范性引用文件已修订，故本标准引用现行标准；的绝缘电阻值：
修改了GB/T11164-1999的4.5.4及4.5.12，增加了安全防护内容.
本标准由中国机械工业联合会提出.
本标准由全国真空技术标准化技术委员会（SAC/TC18）归口.
本标准负责起草单位：北京北仪创新真空技术有限责任公司.
本标准参加起草单位：上海曙光机械制造厂有限公司、兰州真空设备有限责任公司、成都南光机器有限公司、中国航天科技集团第五研究院第510研究所、上海惠丰石油化工有限公司、沈阳真空技术研究所.
本标准主要起草人：陈月增、谢钧荣、范立群、孙凯、温发兰、靳毅、刘强、惠进德、王学智.
本标准所代替标准的历次版本发布情况为：
-GB/T 11164-1989 GB/T 11164-1999
真空镀膜设备通用技术条件
1范围
本标准规定了真空镀膜设备的技术要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输和贮存等要求.简称设备）. 本标准适用于压力在10Pa~10Pa范围的真空蒸发类、溅射类、离子镀类真空镀膜设备（以下
2规范性引用文件
文件，凡是不注日期的引用文件，其最新版本（包括的修改单）适用于本文件. 下列文件对于本文件的应用是必不可少的.凡是注日期的引用文件，仅所注日期的版本适用于本
GB/T191-2008包装储运图示标志GB/T3163-2007真空技术术语GB5226.1一2008机械电气安全机械电气设备第1部分：通用技术条件GB/T6070-2007真空技术法兰尺寸 GB/T13306-2011标牌GB/T13384-2008机电产品包装通用技术条件GB/T15945-2008电能质量电力系统频率偏差要求
JB/T7673真空设备型号编制方法
3术语和定义
GB/T3163一2007界定的以及下列术语和定义适用于本文件.
3. 1 极限压力ultimate pressure泵在工作时，空载干燥的真空容器逐渐接近、达到并维持稳定的最低压力.注：单位方帕（Pa).
3. 2
恢复真空抽气时间pump-downtime
真空系统正常工作时，将空载干燥的镀膜室从大气压（10”Pa）抽到规定的工作压力所需要的时间.注：单位为分钟（min）.
升压率rate ofpressure rise
将空载干燥的镀膜室连续抽气至稳定的最低压力后，停止抽气，在镀膜室内由于漏气或内部放气所造成的单位时间的升压.
注：单位为帕每小时（Pa/b).
4技术要求
4.1设备正常工作条件
4.1.2相对湿度：不大于75%. 4.1.1环境温度：10°℃~35℃.4.1.3冷却水进水温度：不高于25℃.4.1.4冷却水质：城市自来水或质量相当的水.4.1.5供电电源：380V、三相、50Hz或220V、单相、50Hx（由所用电器需要而定）；电压波动范围 342V~399V或198V~231V：根据GB/T 15945-2008中的规定，率偏差限值为±0.5Hz，其频率波动范围49.5Hz~50.5Hz4.1.6设备所需的压缩空气、液氮、冷热水等压力、温度、消耗量均应在产品使用说明书中写明.4.1.7设备周围环境整洁，空气清洁，不应有可引起电器及其他金属件表面离蚀或引起金属间导电的尘埃或气体存在.
4.2设备技术参数
4.2.1设备的主要技术参数应符合表1的规定.4.2.2设备的型号应符合JB/T7673的规定.
表1
项次 参数名称 参数数值300 *、320 400 450、500°、600 630 700*800* 900、1 000、1 1001 膜室尺寸分档/mm 002 8009 z005 z00 2002 000 z008 1 .009 1001 10 105 1 002 1分档 A B c2 真空 极限压力/Pa ≤5X10 ≤5×10 ≤5×10-指标 抽气时间/min (10° Pa~2×10 Pa)≤20(10° Pa~7 × 10 Pa)≤20(10² Pa~7 ×10 Pa)≤20开压率/（Pa/h） ≤2×10-1 ≤8×10-1 <2.53 沉积源 指标 数量及最大耗电功率 沉积源型式、尺寸.工件果 方式 工件架尺寸及转动指标 工件烘烤方式及烘 根据设计要求烤温度5 离子轰击，工件偏压功率6 7 膜厚监控方式及控制精度 设备控制方式8 设备最大耗电量注1：所列镀膜室的几何尺寸，对圆简式室体为展筒内径：对箱式室体为箱体内宽度，带””号尺寸优先选用，其他尺寸和其他结构形式的设备可由制造厂参照上述尺寸决定，专用设备由用户与制造厂另订协议.注2：本尺寸分档作为推荐值，不作考核.
