中华人民共和国国家标准
GB/T32988-2016
人造石英光学低通滤波器晶片
Synthetic quartz crystal wafer for optical low pass filter (OLPF)
中国国家标准化管理委员会 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 发布
目 次
前言1范围3术语和定义 2规范性引用文件4分级5要求5.1晶片5.2尺寸与角度5.3晶片表面疣病6测试方法 5.4晶片的面形偏差6.1包裹体和裂纹6.2条纹6.3尺寸6.4切向和角度偏差6.6垂直度 6.5倒角和倒边6.7 TV56.8表面疣病6.9面形偏差7检验规则 7.1抽样方案7.2判定规则7.3型式检验8包装、标识、交货条件8.1包装8.3交货条件 8.2标识参考文.
前言
请注意本文件的某些内容可能涉及专利.本文件的发布机构不承担识别这些专利的责任. 本标准按照GB/T1.1一2009给出的规则起草.本标准由中国建筑材料联合会提出，本标准由全国人工晶体标准化技术委员会（SAC/TC461）归口.本标准主要起草人：张绍锋、张璇、孙志文、王保新、尚继武、邱欢、华大辰.
人造石英光学低通滤波器晶片
1范围
本标准规定了人造石英光学低通滤波器晶片术语和定义、分级、要求、测试方法、检验规则及包装、标识、交货条件.
本标准适用于人造石英光学低通滤波器晶片.
2规范性引用文件
下列文件对于本文件的应用是必不可少的.凡是注日期的引用文件，仅注日期的版本适用于本文件.凡是不注日期的引用文件，其最新版本（包括的修改单）适用于本文件.
GB/T1185光学零件表面病
GB/T2828.1-2012计数抽样检验程序第1部分：按接收质量限（AQL）检索的逐批检验抽样计划(1SO 2859-1:1999)
GB/T2831光学零件的面形偏差
GB/T6618-2009硅片厚度和总厚度变化测试方法
GB/T7895人造光学石英晶体
GB/T7896-2008人造光学石英晶体试验方法
3术语和定义
GB/T7895、GB/T1185和GB/T2831界定的以及下列术语和定义适用于本文件.为了便于使用，以下重复列出了上述某些术语和定义.
3.1
光学低通滤波器晶片optical low-passfilterwafer;OLPFwafer
用石英品体等材料制作，其单片或多片组合并镀膜后，让某一频率以下的光信号分量通过，面抑制该频率以上的光信号分量的光学基片.
3.2
有效区域fixed quality area；FQA
去除品片边缘特定距离X的晶体表面中心区域.参考图1虚线所包含的区域.
[1EC 62276-2005 定义3.7.1]
包裹体inclusions
将晶体浸在折射率匹配液中，由光源的散射光来观测人造石英晶体中可见的外来物质.最普遍的包裹体为锥辉石.
[GB/T7895-2008定义3.6]
3.4
条纹striae
人造石英晶体中，品体局部区域因折射率发生变化观察到的线条状缺陷.
[GB/T7895-2008 定义3.8]
裂纹crack
在品片表面延伸的并可穿透或未穿透整个晶片厚度的破裂部分.
表面切向surface orientation
9'
晶片表面法线的结晶学取向.
3.7
基准面orientation flat:OF
标明晶体基准方向的晶片外缘的平直部分，具有一定定向精度，通常指晶片长边所代表晶面(图1).
说明：
b--例角；倾角. 例边；0方位角：
图1OLPF晶片示意图
3.8
第二基准面secondaryflat:SF
晶片外缘上，小于OF的另外一条平直面，通常指晶片短边所代表晶面，亦称为副基准面（图1）.3.9
五点厚度差thickness variation for five points;TV5
中心和周边的四点（图1中标识的中心十字线与有效区域边界交点）. 晶片厚度差的一种测量值，定义为5个厚度测量点之间的最大厚度差值.厚度测量的选点为晶片
3.10
倒角bevel
晶片相互垂直的两个基准面之间加工成一定角度的平面或圆孤面（图1）.其中标志性倒角用bu表示.
3.11
倒边chamfer
晶片表面与基准面之间加工成一定角度的平面或圆弧（图1）.
