中华人民共和国国家标准
GB/T 26067-2010
Standard test method for dimensions of notches on silicon wafers
中国国家标准化管理委员会 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 发布
前言
本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会（SAC/TC203/SC2）归口.本标准起草单位：有研半导体材料股份有限公司、万向硅峰电子股份有限公司. 本标准主要起草人：杜娟、孙燕、卢立延、楼春兰.
硅片切口尺寸测试方法
1范围
1.1本标准定性的提供了判定硅片基准切口是否满足标准限度要求的非破坏性测试方法.本方法的测试原理同样适用于其他切口尺寸的测量.1.2本标准中物体平面尺寸为0.1mm时，通过20倍的放大后会在投影屏上形成2.0mm的影像，通过50倍放大后会产生5.0mm的投影，本方法可以发现切口轮廊上的最小尺寸细节. 1.3本标准不提供切口顶端的曲率半径的测试.
2规范性引用文件
件.凡是不注日期的引用文件，其最新版本（包括的修改单）适用于本文件. 下列文件对于本文件的应用是必不可少的.凡是注日期的引用文件，仅注日期的版本适用于本文
GB/T14264半导体材料术语
3术语和定义
GB/T14264界定的术语和定义适用于本文件.
4方法概述
4.1本方法是利用一系列轮廊模板在显示屏上的投影与载物台上的待测硅片的切口投影相比较，从而4.2使硅片切口边缘的投影与定位硅片位置的定位销投影相切.此时，切口底部的投影应位于或者低 得到待测硅片的切口是否满足规定要求.于切口和深度模板的一条已设定基准线，并且硅片边缘的投影位于或高于轮廊板上的另外一条基准线.4.4切口边缘的投影与切口角度轮廊模板上一系列切口角度相比较，其中选择轮廊模板中与切口边缘 板上切口最深线和切口最浅线之间.吻合最好的那个角的角度值作为切口的角度.
4.3重新定位硅片，使硅片的边缘和轮廓模板中“硅片外围线”重合，此时切口底部的投影应在轮廊模
4.5还可以使用边缘轮仪对于切口形状进行精确测量，具体参见附录A.
5干扰因素
5.1切口边缘处任何其他材料的沾污或者租糙通过光路会产生扭曲的投影图像，导致检测出错误的切口尺寸.5.2切口位置相对于硅片中心点的校准是得到准确切口参数的重要环节，5.3磨削工具的磨损以及过程变差可能导致切口边缘不直，使切口顶点的半径不唯一，在这种情况 下，要特别关注定位切口投影图像在轮廊模板上的正确位置.5.4按照特定晶向滚磨硅片边缘形成的切口是对硅片正确定位的方法.因此切口临界尺寸的精度直
接影响定位精度.
6设备
6.1光学投影仪：放大倍数20倍和50倍，可以显示5mm×5mm区域放大20倍或者2mm×2mm区域放大50倍投影图像的显示屏.
6.2支架：用于固定待测试的硅片.支架确保硅片的表面与投影屏垂直，并且硅片可以以中心点为轴旋转.沿硅片直径的水平或垂直运动必须通过切口所在区域.
6.3轮廓模板：测试硅片时需要两个模板.
6.3.1对于切口的定义包括切口形状和切口深度两部分，模板标有切口定义尺寸限度的线段：
1）切口底部和硅片边缘相对于定位点中心的位置：2）切口底部相对于硅片边缘的位置. 不同直径的待测试片需要两个单独的模板.切口形状和深度模板例子见图1.
单位为毫米
注：使用时道时针转动90
图1切口形状和深度模版
6.3.2测量切口角度的模板的角度范围从88°~96°，分刻度为1”.6.3.3建立模板的方法见第8章.6.5尺子：长度为150mm，分刻度小于等于0.5mm. 6.4校准板或精度棒：带有刻度，尺寸与切口的深度大致相同.用于精确建立设备的放大倍数.
7放大倍数的确定
书确定物像放大倍数用三位有效数字表示. 调整光学投影仪至理想的放大倍数.使用已知精确尺寸的校准板或精度棒，按照生产厂商的说明
8轮廓模板准备
8.2准备一个透明材料的模板，其尺寸与8.1要求的尺寸相同.投影图像的精度应高于土0.5mm. 8.1用放大倍数与每一个选定的轮廊模板尺寸相乘.8.3如图1，在切口形状和深度模板上标注水平和垂直轴.
9抽样
按照GB/T2828.1的规定进行，检查水平由供需双方协商确定.需方对抽样有特殊要求时由供需双方协商解决.
10测量步骤
10.1将放大倍数设定为20倍.10.2将支架固定在载物台上，确保切口在9点的位置.支架在载物台上垂直和水平方向的运动分别10.3将切口形状和深度模板放在投影仪屏幕上.调整水平线和垂直线，使固定销的轮在9点位置. 平行和垂直于通过切口的直径.10.4将第一个待测样品放在支架上，正面向上.10.5通过平面横向移动（水平）及定位旋转来调整支架，使模板上固定销的边缘与切口边缘的投影相切.10.6确保切口底部的投影图像重合或者低于"切口底部界限”，如果切口底部的投影图像落在该界限 的上面，该硅片的切口不合格.10.7确保硅片边缘的投影与“硅片外围线”重合或在其下面.如果硅片边缘的投影图像落在硅片外围线的上面，该硅片的切口不合格.10.8将支架向右延平面横向移动，直至硅片边缘的投影图像与标记为"硅片外围线”重合.10.9确保切口底部落在“切口最深线”和“切口最浅线”之间.若切口底部的投影图像落在两条线之 外，该硅片的切口不合格.10.10重复10.4~10.9，测量余下样品.10.11移开切口形状和深度模板，使用切口角度模板.10.12将放大倍数调到50倍， 10.13将第一个待测样品放在支架上，正表面向上.10.14将支架平面横向移动并旋转，使得硅片切口边缘投影图像与切口角度轮廓模板中的每一个角度比较.轮廊模板中与切口投影图像角度吻合最好的那个角的角度，定义为切口的角度.如果切口的角
