ics77.040 CCS H 17 中华人民共和国国家标准 GB/T42274—2022 氮化铝材料中痕量元素(镁、镓)含量及 分布的测定二次离子质谱 Determination of the content and distribution of trace elements ( magnesium gallium )in aluminum nitride materials-Secondary ion mass spectrometry 2022-12-30发布 2023-04-01实施 国家市场监督管理总局 国家标准化管理委员会 发布 GB/T42274-2022 前言 言 本文件按照GB/T1.1—2020《标准化工作导则第1部分:标准化文件的结构和起草规则》的规定 起草 请注意本文件的某些内容可能涉及专利。本文件的发布机构不承担识别专利的责任。 本文件由全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC203)与全国半导体设备和材料标准 化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC203/SC2)共同提出并归口。 本文件起草单位:北京科技大学、中国科学院半导体研究所、有色金属技术经济研究院有限责任公 司、中国科学院青海盐湖研究所、青海圣诺光电科技有限公司。 本文件主要起草人:齐俊杰、魏学成、闫丹、李素青、卫喆、胡超胜、李志超、许磊、王军喜、李晋闽、 魏明、刘江华、张成荣。 GB/T42274-2022 氮化铝材料中痕量元素(镁、镓)含量及 分布的测定二次离子质谱法 1范围 本文件描述了氮化铝单晶中痕量镁和镓含量及分布的二次离子质谱测试方法。 本文件适用于氮化铝单晶中痕量镁和镓含量及分布的定量测定,测定范围为镁、镓的含量均不小于 1×1016cm3,元素含量(原子个数百分比)不大于1%。 注:氮化铝单品中待测元素的含量以每立方厘米中的原子个数计 2规范性引用文件 下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款。其中,注日期的引用文 件,仅该日期对应的版本适用于本文件;不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于 本文件。 GB/T14264半导体材料术语 GB/T22461表面化学分析词 GB/T25186表面化学分析二次离子质谱由离子注入参考物质确定相对灵敏度因子 GB/T32267分析仪器性能测定术语 3术语和定义 GB/T14264、GB/T22461、GB/T25186、GB/T32267界定的术语和定义适用于本文件。 4方法原理 在高真空(真空度优于10-7Pa)条件下,氧离子源产生的一次离子,经过加速、纯化、聚焦后,轰击氮 化铝样品表面,溅射出多种粒子,将其中的二次离子引出,通过质谱仪将不同质荷比的离子分开,记录样 品中待测元素2Mg、Ga和基质元素A1的离子计数率之比。利用相对灵敏度因子定量分析并计算出 ...
GB/T 42274-2022 氮化铝材料中痕量元素（镁、镓）含量及分布的测定 二次离子质谱法.pdf
