中华人民共和国国家标准
GB/T18682-2002
物理气相沉积TiN薄膜技术条件
Specifications ofphysicalvapour deposition TiN films
中华人民共和国 国家质量监督检验检疫总局 发布
目次
前言1范2规范性引用文件3术语和定义 4技术要求5性能及试验方法附录A（规范性附录） 镀膜前零件表面质量控制技术要求附录B（规范性附录） 物理气相沉积技术用钛靶附录D（规范性附录） 附录C（规范性附录） 物理气相沉积TiN设备的真空技术要求 膜厚度测量方法 12附录E（规范性附录）物理气相沉积TiN薄膜防腐能力试验方法 15附录F（规范性附录）物理气相沉积TiN薄膜摩擦学性能试验方法 17
前言
本标准的附录A、附录B、附录C、附录D、附录E、附录F为规范性附录，
本标准由中国机械工业联合会提出.
本标准由全国金属与非金属覆盖层标准化技术委员会归口.
本标准参加起草单位：钢铁研究总院、中科院力学研究所、中国航科集团公司五一一研究所、成都工具研究所、中科院兰州化学物理研究所、兰州真空设备有限责任公司、长沙科航新型表面技术研究所.
本标准主要起草人：凌国伟、李健、倪瀚、黄济群、曲学基、纪晓春、秦襄培.
