中华人民共和国国家标准
GB/T 34697-2017
Treatment and disposal method for spent fluoric etchant
中国国家标准化管理委员会 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 发布
前言
本标准按照GB/T1.1-2009给出的规则起草.
本标准由中国石油和化学工业联合会提出.
本标准由全国废弃化学品处置标准化技术委员会（SAC/TC294）归口.
本标准起草单位：杭州格林达化学有限公司、昆明培铭科技有限公司、常州清流环保科技有限公司、深圳市中润水工业技术发展有限公司、四川省中明环境治理有限公司、深圳慧欣环境技术有限公司、重庆蓝洁广顺净水材料有限公司、厦门高普尔自动化设备有限公司、江西核工业环境保护中心、浙江海翔净水科技有限公司、天津理工大学、重庆大学、重庆新申世纪化工有限公司、中海油天津化工研究设计院有限公司.
本标准主要起草人：尹云舰、赵红林、韩晓刚、李润生、何中明、黄崇坚、谷飞、陈嘉窦、杜兴胜、张怡.李梅彤、陈玉英、陈建敏、郑怀礼、申静、弓创周.
含氟蚀刻废液处理处置方法
1范围
本标准规定了含氟蚀刻废液组成、处理处置方法及环境保护要求.刻所产生含氟蚀刻废液的处理处置. 本标准适用于TFT-LCD液晶显示屏玻聘蚀刻、光伏行业蚀刻、IC硅片蚀刻、电极箔蚀刻及稀土蚀
2规范性引用文件
下列文件对于本文件的应用是必不可少的.凡是注日期的引用文件，仅注日期的版本适用于本文件.凡是不注日期的引用文件，其最新版本（包括的修改单）适用于本文件.
GB5085.7危险废物鉴别标准通则GB8978污水综合排放标准GB16297大气污染物综合排放标准 GB18599一般工业固体废物贮存、处置场污染控制标准GB/T 23936 工业氟硅酸钠GB/T 27804 氟化钙GB/T 28653 工业氟化氢铵 工业氟化铵GB/T 28655 HG/T 4692 工业氟硅酸铵HG/T 4693 工业氟硅酸钾YS/T691氟化镁
3含氟蚀刻废液组成
含氟蚀刻废液主要组成见表1.
表1主要组成
项目 来源TFT-LCD液晶显示屏玻璃蚀刻、 光伏行业蚀刻、IC硅片蚀刻废液 电投箔蚀刻废液 稀土蚀刻废液氢氟酸（HF1/% 1~10 1~10 5~15氟硅酸（HSiF/% 5~15 - 3~10盐酸（HC1/% 8~E <≤0 1硫酸（H;SOw/% 1~3 1~-3硝酸（HNO1/% 2~10 [~3 0.1~0 5 氯化氢铵(NHHF;e/ % 5~15 4处理处置方法 4.1TFT-LCD液晶显示屏玻璃蚀刻、光伏行业蚀刻及IC硅片蚀刻废液再生回用 4.1.1原理 利用除杂剂对TFT-LCD液品显示屏玻璃蚀刻、光伏行业蚀刻及IC硅片蚀刻后产生的含氟蚀刻废液进行处理，过滤除去其中主要杂质氟硅酸（去氟硅酸盐生产系统），滤液再经过1级、2级膜处理提浓屏玻璃蚀刻、光伏行业蚀刻及IC硅片蚀刻液，重新返回至蚀刻槽中使用. 处理后导人到混配反应釜中，加人含一定量氢氟酸的复配酸，得到符合适用条件的TFT-LCD液晶显示 4.1.2工艺流程 在含氟蚀刻废液中加人除杂剂，经搅拌、过滤、两级膜处理后，进入复配反应釜，加人复配酸，充分搅拌后得到TFT-LCD液晶显示屏玻璃蚀刻、光伏行业蚀刻及IC硅片蚀刻液.含氟蚀刻废液再生工艺流 程见图1. 图1含氟蚀刻废液再生工艺流程图 4.1.3工艺参数 含氟蚀刻废液再生工艺参数如下： 除杂反应温度：常温：除杂反应酸度（以H计）：不大于1.0mol/L；除杂反应时间：0.5h~1.0h； 膜处理温度：常温；复配反应温度：常温；一复配反应酸度（以H计）：不大于1.0mol/L. 4.1.4生产设备 含氟蚀刻废液再生所需主要设备有反应釜、过滤设备、膜处理设备、通风设备、包装设备等. 4.1.5技术评价 TFT-1CD液晶显示屏玻璃蚀刻、光伏行业蚀刻及IC硅片蚀刻废液再生技术评价见表2. 表2评价指标及试验方法 项 日 指标 试验方法氢氟酸回收率p/% 80 0其他酸回收率p/% 80 0 见附录A 4.2生产氟化物 4.2.1生产氟化钙、氟化镁 4.2.1.1适用范围 此法适用于氢氟酸含量不小于5%，且氟硅酸含量较低的含氟蚀刻废液的处理处置. 4.2.1.2原理 加人除杂剂，将含氟蚀刻废液进行除杂处理后，过滤，去除其中的硫酸根、氯离子等，加人氢氧化钙（或氢氧化镁），完全反应后，再经蒸发结晶、过滤洗涤、烘干、粉碎，得到氟化钙（或氟化镁）产品.化学反应方程式如下： 4.2.1.3工艺流程 将含氟蚀刻废液置于反应釜中，加入除杂剂，搅拌，过滤，去除其中的硫酸根、氯离子等，得到一定浓度的纯净氢氟酸溶液，置于反应釜中，边搅拌边加人氢氧化钙（或氢氧化镁），充分反应后，再经蒸发结晶、过滤洗涤、烘干、粉碎、包装，得到氟化钙（或氟化镁）产品.工艺流程见图2. 图2生成氟化钙（氟化镁）工艺流程图
