中华人民共和国国家标准
GB/T30858-2025代替GB/T30858-2014
蓝宝石单晶衬底抛光片
Polished mono-crystalline sapphire substrate wafer
国家市场监督管理总局 国家标准化管理委员会 发布
前言
本文件按照GB/T1.1-2020《标准化工作导则第1部分：标准化文件的结构和起草规则》的规定起草.
整和编辑性改动外，主要技术变化如下：
a）更改了适用范围（见第1章，2014年版的第1章）：b）更改了“亮点”的定义（见3.3，2014年版的3.5），剩除了“蓝宝石”等术语和定义（见2014年版的3.1~3.4），并增加了“沾污”橘皮”的术语和定义（见3.1和3.2）；d）更改了总杂质含量的要求（见5.1，2014年版的4.1）； c）增加了总则（见第4章）；e）更改了结晶完整性的要求（见5.2，2014年版的4.2）；f）删除了生长方法的要求（见2014年版的4.3）；g）更改了表面取向及主参考面取向或主参考槽取向的要求，并删除了图1、图2（见5.3.2014年h）更改了尺寸及允许偏差的要求（见5.4.1，2014年版的4.5）； 版的4.4);i）增加了参考槽的尺寸及允许偏差的要求和参考槽的结构图（见5.4.2）；j）更改了背表面粗糙度的要求（见5.6，2014年版的4.7）；k）更改了正表面缺陷的要求（见5.7.2014年版的4.8）； 1）更改了背表面缺陷的要求（见5.8，2014年版的4.9）；m）更改了题粒度的要求（见5.9，2014年版的4.10）；n）更改了总杂质含量、结晶完整性、表面取向及主参考面取向或主参考槽取向、尺寸及允许偏差、正表面粗糙度的试验方法（见第6章，2014年版的第5章）：p）更改了检验项目及取样的要求（见7.3、7.4.2014年版的6.3）； o）更改了组批的要求（见7.2.2014年版的6.2）；q）更改了检验结果的判定方法（见7.5，2014年版的6.4）；r）更改了标志的内容（见8.1，2014年版的7.1)；s）更改了包装的内容（见8.2 2014年版的7.2）；t）增加了随行文件的内容（见8.5）.
请注意本文件的某些内容可能涉及专利，本文件的发布机构不承担识别专利的责任.
本文件由全国半导体设备和材料标准化技术委员会（SAC/TC203）与全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会（SAC/TC203/SC2）共同提出并归口.
本文件起草单位：天通银厦新材料有限公司、有色金属技术经济研究院有限责任公司、青岛华芯品电科技有限公司、中国科学院上海光学精密机械研究所、广东中图半导体科技股份有限公司、徐州凯成 科技有限公司、宁夏材料研究学会、北方民族大学、深圳中机新材料有限公司.
本文件主要起草人：鲁雅荣、杨诗音、康森、李素青、郑东、杭寅、张能、陆椿、韩风兰、李宁、武金龙、董福元、陈斌.
本文件于2014年首次发布，本次为第一次修订.
蓝宝石单晶衬底抛光片
1范围
本文件规定了蓝宝石单晶衬底抛光片（以下简称“蓝宝石衬底片”）的技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存、随行文件和订货单内容，
本文件适用于直径不大于200mm的蓝宝石衬底片.产品主要用于外延生长半导体薄膜、生产蓝宝石图形化衬底、蓝宝石键合衬底等.
2规范性引用文件
下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款.其中，注日期的引用文件，仅该日期对应的版本适用于本文件：不注日期的引用文件，其最新版本（包括的修改单）适用于本文件.
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3术语和定义
GB/T14264和GB/T31092界定的以及下列术语和定义适用于本文件.
3.1
沾污contaminant
非有意地附加到蓝宝石衬底片表面上的物质.
